Eksma FEMTOLINE薄型AR透鏡500-530 NM-4

Eksma FEMTOLINE薄型AR透鏡500-530 NM-4

具有500-530 nm范圍的減反射鍍膜的薄透鏡。透鏡可以提供電子束（+ AR515）或IBS（+ AR515HT）鍍膜。

產品介紹

Ø防反射鍍膜的AR / AR @ 500-530 nm

Ø非常?。哼吘壓穸葟?.5到1.9mm不等

Ø中心厚度從1到3mm不等

Ø平凸或平凹類型

Ø也可以不加鍍膜或帶有不同的增透膜

Femtoline Thin AR在500-530 nm透鏡上鍍膜，適用于飛秒Ti：Sapphire激光脈沖的應用。所展示的透鏡可確保寬帶飛秒Ti：藍寶石激光脈沖的低群延遲色散。

EKSMA OPTICS是激光，激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業，醫學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質和非線性頻率轉換晶體，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。

公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內工作，可在科學，工業，醫學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用，軍事和航空航天市場。

EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光，而大功率激光應用需要高質量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備，球面，軸錐和非球面鏡片CNC制造設備，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備，超快電光脈沖拾取系統制造技術部門和質量控制設備。

公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。

該公司可根據客戶的圖紙和規格提供定制的光學和晶體組件。但是，我們還提供了廣泛的標準目錄產品，可以快速實現現成的交付。

產品型號

平凹透鏡（ø12.7 mm）

平凹透鏡（ø25.4 mm）

鍍膜

EKSMA OPTICS是激光，激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業，醫學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質和非線性頻率轉換晶體，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。

公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內工作，可在科學，工業，醫學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用，軍事和航空航天市場。

EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光，而大功率激光應用需要高質量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備，球面，軸錐和非球面鏡片CNC制造設備，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備，超快電光脈沖拾取系統制造技術部門和質量控制設備。

公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。

該公司可根據客戶的圖紙和規格提供定制的光學和晶體組件。但是，我們還提供了廣泛的標準目錄產品，可以快速實現現成的交付。

EKSMA OPTICS是激光，激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業，醫學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質和非線性頻率轉換晶體，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。

公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內工作，可在科學，工業，醫學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用，軍事和航空航天市場。

EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光，而大功率激光應用需要高質量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備，球面，軸錐和非球面鏡片CNC制造設備，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備，超快電光脈沖拾取系統制造技術部門和質量控制設備。

公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。

該公司可根據客戶的圖紙和規格提供定制的光學和晶體組件。但是，我們還提供了廣泛的標準目錄產品，可以快速實現現成的交付。